मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य

घनत्व: 10.2 ग्राम/सेमी3

गलनांक: 2610 डिग्री

क्वथनांक: 5560 डिग्री

मोलिब्डेनम लक्ष्य शुद्धता: 99.9%, 99.99%

विशिष्टताएँ: गोलाकार लक्ष्य, प्लेट लक्ष्य, घूर्णन लक्ष्य

शुद्धता: शुद्ध मोलिब्डेनम 99.95% से अधिक या उसके बराबर, उच्च तापमान मोलिब्डेनम 99% से अधिक या उसके बराबर (अतिरिक्त दुर्लभ पृथ्वी तत्वों के साथ)

मोलिब्डेनम बिलेट्स (कच्चा माल) - निरीक्षण - हॉट रोलिंग - क्षार धुलाई - कोल्ड रोलिंग - लेवलिंग - यांत्रिक प्रसंस्करण - निरीक्षण - पैकेजिंग

मोलिब्डेनम सामग्री के लिए उपयुक्त वातावरण: वैक्यूम वातावरण या अक्रिय गैस संरक्षण वातावरण, शुद्ध मोलिब्डेनम में 1200 डिग्री के उच्च तापमान के लिए उच्च प्रतिरोध होता है, और मोलिब्डेनम मिश्र धातु में 1700 डिग्री के उच्च तापमान के लिए उच्च प्रतिरोध होता है।

मोलिब्डेनम लक्ष्य सामग्री का उपयोग इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोप, सौर सेल, अर्धचालक उद्योग, फ्लैट पैनल डिस्प्ले, प्रवाहकीय ग्लास में किया जा सकता है

मोलिब्डेनम लक्ष्य सामग्री का उपयोग ऑप्टिकल कोटिंग, सजावटी कोटिंग , मोल्ड कोटिंग और अन्य क्षेत्रों में भी किया जा सकता है। मोलिब्डेनम लक्ष्य के ये अनुप्रयोग उनके अद्वितीय भौतिक और रासायनिक गुणों से लाभान्वित होते हैं, जैसे उच्च पिघलने बिंदु, अच्छी विद्युत चालकता और तापीय स्थिरता, साथ ही उच्च तापमान और संक्षारक वातावरण के प्रति उनका प्रतिरोध।

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